‘D램 핵심기술 中 유출’ 삼성전자 임직원 재판에

2025-10-01 17:10   사회

 뉴시스

우리나라의 반도체 핵심 공정 기술을 중국 업체로 유출한 혐의로 전 삼성전자 임직원들이 재판에 넘겨졌습니다.

서울중앙지검은 전 삼성전자 임원 양모씨와 전직 연구원 신모 씨, 권모 씨 등 3명을 산업기술보호법 위반과 부정경쟁방지법 위반 혐의로 구속기소 했다고 오늘(1일) 밝혔습니다.

검찰에 따르면 양 씨 등은 삼성전자의 18나노 D램 공정 핵심기술을 부정사용해 중국 CXMT에서 D램을 개발한 혐의를 받고 있습니다. 검찰은 이들이 기술 유출 대가로 15~30억 원의 급여를 지급 받은 것으로 파악했습니다.

CXMT는 중국 지방정부가 2.6조 원을 투자해 설립한 중국 최초의 D램 반도체회사입니다. 지난 2023년 세계 4번째로 18나노 D램 양산에 성공했습니다.

유출된 핵심기술은 삼성전자가 1.6조 원을 투자해 세계 최초로 개발한 10나노대 D램의 최신 공정기술입니다. 기술유출로 인한 삼성전자의 지난해 추정 매출감소액은 5조원에 이르는 것으로 알려졌습니다.


김호영 기자 kimhoyoung11@ichannela.com