지난 5일 오후 서울 서초구 삼성전자 서초사옥에 걸린 깃발이 바람에 휘날리고 있다. 사진=뉴시스

미국 정부는 15일(현지시간) 미국 텍사스주에 최첨단 반도체 공장을 건립하는 삼성전자에 반도체 보조금 64억달러(약 8조9000억원)를 지원하기로 결정했다고 발표했습니다.

지나 러몬도 미 상무부 장관은 전날 브리핑에서 삼성전자의 텍사스 첨단 반도체 공장 투자를 위해 반도체법에 따라 64억달러의 보조금을 제공할 예정이라고 밝혔습니다.

삼성전자는 이에 맞춰 현재 미국 텍사스주 테일러시에 170억달러(약 23조5000억원)를 투자해 건설 중인 반도체 공장의 규모와 투자 시설을 확대해, 오는 2030년까지 총 약 450억달러(약 62조3000억원)를 투자할 계획입니다.

삼성전자는 2022년부터 텍사스주 테일러시에 건설 중인 반도체 생산 공장에 추가로 새 반도체 공장을 건설하고, 패키징 시설과 함께 첨단 연구·개발(R&D) 시설을 신축해 본격적인 미국 시장 공략에 나설 방침입니다.

삼성전자의 첫 번째 텍사스주 반도체 공장은 2026년부터 4나노미터 및 2나노미터 반도체를 생산할 예정이며, 두 번째 공장은 2027년부터 첨단 반도체를 양산할 계획입니다. R&D 팹 역시 2027년 문을 열 예정입니다.

러몬도 장관은 “조 바이든 대통령의 ‘인베스트 아메리카’ 의제에 따라 또 한 번의 역사적 투자를 기념하게 됐다”며 “이로써 세계 최첨단 반도체가 미국에서 생산될 것”이라고 강조했습니다.

미국 정부가 삼성전자에 지원하는 반도체 보조금은 미국 반도체기업인 인텔(85억달러·11조8000억원)과 대만 기업인 TSMC(66억달러·9조1000억원)에 이어 3번째로 큰 규모입니다.